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罐體拋光機(jī)械的種類劃分及加工步驟
添加時(shí)間:2017-05-05
1罐體拋光機(jī)機(jī)械拋光
罐體拋光機(jī)機(jī)械拋光(也就是所謂的物理拋光)是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法,一
般使用油石條、羊毛輪、砂紙等,以手工操作為主,特殊零件如回轉(zhuǎn)體表面,可使用轉(zhuǎn)臺(tái)等輔助工具,表面質(zhì)量 要求
高的可采用超精研拋的方法。超精研拋是采用特制的磨具,在含有磨料的研拋液中,緊壓在工件被加工表面上,作高
速旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。利用該技術(shù)可以達(dá)到 Ra0.008 μ m 的表面粗糙度,是各種拋光方法中最高的。光學(xué)鏡片模具常采用這
種方法。
2化學(xué)拋光
化學(xué)拋光(也成為腐蝕拋光)是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解,從而得到平滑面。這種
方法的主要優(yōu)點(diǎn)是不需復(fù)雜設(shè)備,可以拋光形狀復(fù)雜的工件,可以同時(shí)拋光很多工件,效率高?;瘜W(xué)拋光的核心問(wèn)題
是拋光液的配制?;瘜W(xué)拋光得到的表面粗糙度一般為數(shù) 10 μ m 。
3電解拋光
電解拋光基本原理與化學(xué)拋光相同,即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。與化學(xué)拋光相比,可以
消除陰極反應(yīng)的影響,效果較好。電化學(xué)拋光過(guò)程分為兩步:
( 1 )宏觀整平 溶解產(chǎn)物向電解液中擴(kuò)散,材料表面幾何粗糙下降, Ra > 1 μ m 。
( 2 )微光平整 陽(yáng)極極化,表面光亮度提高, Ra < 1 μ m 。
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